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Equipments

par Angélique Bousquet - 2 octobre

L’équipe MATEPP dispose de 3 réacteurs de dépôt/traitement de surface par procédé plasma.

PVD 1  : Réacteur PVD hybride (2 cathodes RF + 4 crayons MW), porte substrat chauffant et polarisable.

PVD 2 : Réacteur PVD (2 Cathodes RF, crayons MW adaptables), pouvant travailler en atmosphère fluorée, porte-substrat polarisable. Financement Soutien à l’Innovation de la Région Auvergne.

ALCATEL 450  : Réacteur PVD (4 cathodes coplanaires), porte substrat chauffant et polarisable, connecté à une boîte à gant pour matériaux hydroscopiques.

L’équipe MATEPP dispose également de moyens d’outils de caractérisation du plasma et des propriétés des couches minces.

Spectromètre avec caméra CCD (220-1050 nm), mesures résolues en temps.

Ellipsomètre spectroscopique UVISEL ex-situ sur la gamme 0,59 – 4,965 eV (250 – 2100 nm).

Banc de mesures électriques courant/tension (mesures 2 points ou 4 pointes).