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BOUSQUET Angélique

Maître de Conférences - Université Clermont Auvergne

Contact : Angelique.Bousquet@uca.fr

Tél. : +33 (0)4.73.40.53.72

Bâtiment Chimie 5 RDC, Bureau 5023

Fonctions à l’ICCF

- Membre de l’équipe Matériaux Inorganiques (MI)
- Membre de la thématique Matériaux, Plasmas et Procédés (MATEPP)
- Membre la commission Communication

Thèmes de recherche

- Procédés plasmas (PECVD et PVD) : élaboration de couches minces, analyse du plasma, interactions plasma/surface.
- Oxynitrures pour dispositifs antireflets (SiOxNy, TaOxNy…).
- Dispositifs électroluminescents à base de luminophore ou de type diode.

Recherches actuelles

- Oxyde de Zinc dopé azote comme oxyde transparent et semiconducteur de type p pour dispositifs électroluminescents.
- Couches antireflets et/ou de passivation pour le photovoltaïque de premier et deuxième générations (SiNOC:H, SiOxNy).
- Pulvérisation réactive pour le dépôt de Cu(In,Ga)Se2 comme absorbeur de cellule solaire de deuxième génération (Collaboration IRDEP).

Parcours de recherche

- 2012 : Habilitée à Dirigée des Recherches
- 2006 : Maître de conférences à l’Université Blaise Pascal.
- 2006 : Post-doctorat au Max Planck Institut for Polymer Research à Mainz (Allemagne) – Groupe polymères pour application biologique.
- 2005 : Doctorat à l’Institut des Matériaux Jean Rouxel à Nantes – Equipe Plasma et Couches minces.
- 2002 : Ingénieur de Polytech’Nantes en Sciences des Matériaux.

Bibliographie

Articles

17 publications, 2 chapitres d’ouvrage – 31 communications orales dans des conférences.

“Control the Composition of Tantalum Oxynitride Films by Sputtering a Tantalum Target in Ar/O2/N2 Radiofrequency Magnetron Plasmas” A. Bousquet, F. Zoubian, J. Cellier, T. Sauvage, E. Tomasella - Plasma Processes Polym., 2013, 10, 990–998.

“Influence of synthesis conditions on optical and electrical properties of CaTiO3:Pr3+ thin films deposited by radiofrequency sputtering for electroluminescent device” L. Sarakha, T. Bégou, A. Goullet, J. Cellier, A. Bousquet, E. Tomasella, T. Sauvage, P. Boutinaud, R. Mahiou - Surf. Coat. Technol., 2010, 205, S250-S253.

“Structural and optical investigations of silicon carbon nitride thin films deposited by magnetron sputtering” E. Tomasella, L. Spinelle, A. Bousquet, F. Rebib, M. Dubois, C. Eypert, J. P. Gaston, J. Cellier, T. Sauvage – Plasma Processes and Polymers, 2009, 6(S1), 11-16.